日特 超声波液体浓度计

  富士工业超声波液体浓度计 FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用产品介绍:  超声波液体浓度计单成分用  半导体制造用  FU
   富士工业超声波液体浓度计  FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用产品介绍:
  超声波液体浓度计单成分用
  半导体制造用
  FUD-1Model-13
  测量原理
  超声波在液体中非常易于传播
  超声波在溶液中传播的速度受溶液的浓度和温度影响
  「浓度变化」→「密度变化」→「音速变化」
  本产品利用超声波的特性,高精度的测量溶液的浓度
  测量「溶液的温度」+「超声波的速度」→通过CPU演算处理→浓度显示
  可根据检量线的交换测量各种半导体药液的浓度
  发信器小型、轻量,可直接在线装置
  免保养设计
  接液部分全部采用(PFA)材料
  小型输出设计,对药液没有影响
  单成分浓度计的特点
  实时浓度测量可能,浓度管理系统构筑简单
  模拟DC4~20mA及数字RS232C标准输出
  标配测量错误输出和警报输出
  标配自我诊断功能·错误信息提示
  小型·轻量小型发信器在线直接设置可能
  采用PFA的接液构件、小输出设计对药液没有影响
  优点
  高精度连续计测可能
  无需定期调整、校对,无需维护
  设置时的各种调整等不需要也容易设置
  由于实时输出反馈也容易
  用途
  在CMP工序中的CMP衬垫或氧化剂浓度管理等
  稀释工程的各种药液浓度管理等(H2O2?TMAH?HNO3?H2SO4?HCl等)
  在清洗过程中的清洗液浓度管理等(HF?NH4OH?KOH?IPA等)
  蚀刻工序中的蚀刻液浓度管理等(HF?H2SO4等)
  富士工业超声波液体浓度计  FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用产品介绍:
  超声波液体浓度计单成分用
  半导体制造用
  FUD-1Model-13
  测量原理
  超声波在液体中非常易于传播
  超声波在溶液中传播的速度受溶液的浓度和温度影响
  「浓度变化」→「密度变化」→「音速变化」
  本产品利用超声波的特性,高精度的测量溶液的浓度
  测量「溶液的温度」+「超声波的速度」→通过CPU演算处理→浓度显示
  可根据检量线的交换测量各种半导体药液的浓度
  发信器小型、轻量,可直接在线装置
  免保养设计
  接液部分全部采用(PFA)材料
  小型输出设计,对药液没有影响
  单成分浓度计的特点
  实时浓度测量可能,浓度管理系统构筑简单
  模拟DC4~20mA及数字RS232C标准输出
  标配测量错误输出和警报输出
  标配自我诊断功能·错误信息提示
  小型·轻量小型发信器在线直接设置可能
  采用PFA的接液构件、小输出设计对药液没有影响
  优点
  高精度连续计测可能
  无需定期调整、校对,无需维护
  设置时的各种调整等不需要也容易设置
  由于实时输出反馈也容易
  用途
  在CMP工序中的CMP衬垫或氧化剂浓度管理等
  稀释工程的各种药液浓度管理等(H2O2?TMAH?HNO3?H2SO4?HCl等)
  在清洗过程中的清洗液浓度管理等(HF?NH4OH?KOH?IPA等)
  蚀刻工序中的蚀刻液浓度管理等(HF?H2SO4等)
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