原位薄膜应力测试仪采用非接触激光MOS技术；不但可以对样品表面应力分布进行统计分析，而且还可以进行样品表面二维应力、曲率成像分析；客户可自行定义选择使用任意一个或者一组激光点进行测量；并且这种设计始终保证所有阵列的激光光点始终在同一频率运动或扫描，从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响；同时提高了测试的分辨率；适合各种材质和厚度薄膜应力分析；
原位薄膜应力测试仪
典型用户：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学，中国计量科学院等、半导体和微电子制造商（如IBM.，Seagate Research Center,Phillips Semiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用；
相关产品：
薄膜应力仪（kSA MOS 薄膜应力测量仪）：为独立测量系统，同样采用多光束MOS技术，详细信息请与我们联系。
设备名称：
原位薄膜应力测量系统，原位薄膜应力测试仪，原位薄膜应力计，薄膜应力仪，kSA MOS Film Stress Tester, kSA MOS Film Stress Measurement System;
主要特点：
1.MOS 多光束传感器技术；
2.单Port(样品正上方)和双Port(对称窗口)系统设计；
3.适合MOCVD, MBE, Sputter，PLD、蒸収系统等各种真空薄膜沉积系统以及热处理设备等；
4.薄膜应力各向异性测试和分析功能；
5.生长速率和薄膜厚度测量；（选件）
6.光学常数n&k 测量；（选件）
7.多基片测量功能；（选件）
8.基片旋转追踪测量功能；（选件）
9.实时光学反馈控制技术，系统安装时可设置多个测试点；
10.免除了测量丌受真空系统振动影响；
测试功能：
1.实时原位薄膜应力测量
2.实时原位薄膜曲率测量
3.实时原位应力*薄膜厚度曲线测量
4.实时原位薄膜生长全过程应力监控等
更多详情请咨询：http://www.julistech.com/SonList-2177087.html
https://www.chem17.com/st454219/erlist_2177087.html
特别提示：本信息由相关用户自行提供，真实性未证实，仅供参考。请谨慎采用，风险自负。
